晶片大戰|荷蘭擬立法限制向中國出口浸沒式DUV光刻機 中方:堅決反對並已提出交涉

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荷蘭政府周三(8日)表示,計劃對半導體技術出口實施新限制,以保護國家安全,加入美國對華晶片出口禁令的行列。美國去年10月以國家安全為由,實施全面出口管制,以阻止中國取得先進晶片技術,包括用以生產尖端晶片的設備,來進一步發展自己的晶片產業及提升軍事能力。上月初,美國商務部副部長Don Graves承認,華府與日本與荷蘭已達成協議,對出口到中國的半導體晶片製造設備實施新禁令,當時並未提及措施的具體內容。

綜合《路透》、《彭博》及《金融時報》等外媒報導,據荷蘭貿易大臣施萊納馬赫(Liesje Schreinemacher)致議員的一封信函,當局擬提議限制浸沒式(Immersion,或稱液浸式、浸潤式)DUV(深紫外線)光刻機的出口,並指出該項技術是生產世界上最先進的晶片的關鍵所在,她在信中表示:「鑑於科技發展和地緣政治背景」、「荷蘭認為有必要以國家和國際安全的理由,盡早控制這項技術」、「擴大對特定半導體生產設備的現有出口管制」、「因此內閣將引入一份國家管制清單」。有關規定預計將於夏季前公布。

資料圖片(Twitter:ASML)

Schreinemacher在信中並未提到荷蘭的主要貿易夥伴中國,也沒提及荷蘭的晶片光刻機製造商ASML(艾司摩爾,美:ASML),但受到未來新禁令影響的各方基本上是呼之欲出。2019年以來,在美國外交施壓影響下,ASML因應荷蘭當局禁令,沒有在中國銷售其尖端的EUV(極深紫外線)光刻機,只向中國客戶銷售其他產品如DUV設備,該部份銷售佔其2021年銷售收入的16%。但根據荷蘭內閣最新提案內容,意味着較EUV光刻機低規格的產品如DUV光刻機也將同遭禁止。

ASML聲明指出,有關措施將不會對該公司今年或更長期的財務前景產生實質性影響。惟該公司也表示,將需要就裝運最先進的DUV系統申請出口許可,又稱:「重要的是,要考慮到額外的出口管制並不適用於所有浸沒式光刻工具,而是只適用於所謂『最先進』的工具」、「先進程度相對較低的浸沒式光刻系統,已充份滿足成熟製程為主的客戶的需求」。然而ASML也指出,該公司還未收到關於「最先進」的確切定義指引,只將之解釋為「關鍵浸沒」,包括生產高性能晶片的TWINSCAN NXT:2000i光刻系統及其更高級版本。

《彭博》報導指出,如果ASML的說法正確,荷蘭新規定可能達不到美國對本國晶片設備行業的限制標準。ASML的美國競爭對手的業務目前受到諸多限制,包括機器可以生產何種產品,以及是否可以派人赴華工作等。

據指荷蘭ASML將不能對中國出口製造先進制程晶片的光刻機。

Schreinemacher表示,荷蘭政府已決定採取盡量謹慎和準確的措施,以避免對價值鏈(Value chains)造成不必要的破壞。她寫道,對於重要的公司而言,他們要了解所面臨的問題,並需時適應新規則。

在北京,外交部發言人毛寧表示,中方注意到有關出口限制的報導,中方對荷蘭方面以行政手段,干預限制中國和荷蘭企業的正常經貿往來表示堅決反對,中方已經向荷蘭方面提出交涉。

毛寧指出,近年來,個別國家為剝奪中國的發展權利,維護自身霸權,泛化國家安全概念,將經貿科技問題政治化、工具化,甚至不惜犧牲盟友的利益,脅迫誘拉一些國家對中國采取出口限制措施,有關霸凌霸道行徑嚴重破壞市場規則和國際經貿秩序,不僅損害中國企業的合法權益,也嚴重衝擊全球産業鏈供應鏈穩定和世界經濟發展,終將反噬自身。

毛寧強調,中方希望荷方秉持客觀公正立場和市場原則,尊重契約精神,從維護自身利益出發,不跟隨個別國家濫用出口管制措施,同中方共同維護國際產業鏈供應鏈穩定和自由開放的國際貿易秩序,維護兩國和雙方企業的共同利益。

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