荷蘭政府周三（8日）表示，計劃對半導體技術出口實施新限制，以保護國家安全，加入美國對華晶片出口禁令的行列。美國去年10月以國家安全為由，實施全面出口管制，以阻止中國取得先進晶片技術，包括用以生產尖端晶片的設備，來進一步發展自己的晶片產業及提升軍事能力。上月初，美國商務部副部長Don Graves承認，華府與日本與荷蘭已達成協議，對出口到中國的半導體晶片製造設備實施新禁令，當時並未提及措施的具體內容。
綜合《路透》、《彭博》及《金融時報》等外媒報導，據荷蘭貿易大臣施萊納馬赫（Liesje Schreinemacher）致議員的一封信函，當局擬提議限制浸沒式（Immersion，或稱液浸式、浸潤式）DUV（深紫外線）光刻機的出口，並指出該項技術是生產世界上最先進的晶片的關鍵所在，她在信中表示：「鑑於科技發展和地緣政治背景」、「荷蘭認為有必要以國家和國際安全的理由，盡早控制這項技術」、「擴大對特定半導體生產設備的現有出口管制」、「因此內閣將引入一份國家管制清單」。有關規定預計將於夏季前公布。
Schreinemacher在信中並未提到荷蘭的主要貿易夥伴中國，也沒提及荷蘭的晶片光刻機製造商ASML（艾司摩爾，美：ASML），但受到未來新禁令影響的各方基本上是呼之欲出。2019年以來，在美國外交施壓影響下，ASML因應荷蘭當局禁令，沒有在中國銷售其尖端的EUV（極深紫外線）光刻機，只向中國客戶銷售其他產品如DUV設備，該部份銷售佔其2021年銷售收入的16%。但根據荷蘭內閣最新提案內容，意味着較EUV光刻機低規格的產品如DUV光刻機也將同遭禁止。
ASML聲明指出，有關措施將不會對該公司今年或更長期的財務前景產生實質性影響。惟該公司也表示，將需要就裝運最先進的DUV系統申請出口許可，又稱：「重要的是，要考慮到額外的出口管制並不適用於所有浸沒式光刻工具，而是只適用於所謂『最先進』的工具」、「先進程度相對較低的浸沒式光刻系統，已充份滿足成熟製程為主的客戶的需求」。然而ASML也指出，該公司還未收到關於「最先進」的確切定義指引，只將之解釋為「關鍵浸沒」，包括生產高性能晶片的TWINSCAN NXT:2000i光刻系統及其更高級版本。
《彭博》報導指出，如果ASML的說法正確，荷蘭新規定可能達不到美國對本國晶片設備行業的限制標準。ASML的美國競爭對手的業務目前受到諸多限制，包括機器可以生產何種產品，以及是否可以派人赴華工作等。
Schreinemacher表示，荷蘭政府已決定採取盡量謹慎和準確的措施，以避免對價值鏈（Value chains）造成不必要的破壞。她寫道，對於重要的公司而言，他們要了解所面臨的問題，並需時適應新規則。
在北京，外交部發言人毛寧表示，中方注意到有關出口限制的報導，中方對荷蘭方面以行政手段，干預限制中國和荷蘭企業的正常經貿往來表示堅決反對，中方已經向荷蘭方面提出交涉。
毛寧指出，近年來，個別國家為剝奪中國的發展權利，維護自身霸權，泛化國家安全概念，將經貿科技問題政治化、工具化，甚至不惜犧牲盟友的利益，脅迫誘拉一些國家對中國采取出口限制措施，有關霸凌霸道行徑嚴重破壞市場規則和國際經貿秩序，不僅損害中國企業的合法權益，也嚴重衝擊全球産業鏈供應鏈穩定和世界經濟發展，終將反噬自身。
毛寧強調，中方希望荷方秉持客觀公正立場和市場原則，尊重契約精神，從維護自身利益出發，不跟隨個別國家濫用出口管制措施，同中方共同維護國際產業鏈供應鏈穩定和自由開放的國際貿易秩序，維護兩國和雙方企業的共同利益。
